2023年7月广州安海搬迁至合肥,更名为合肥安海半导体股份有限公司
2023年5月安海获得A轮上亿元融资
2022年12月 第三代沟槽型SiC MOSFET量产,G3较G2功率密度又提高50%,1200V15毫欧良率超过70%。
2021年12月第二代1200V SiC MOS开始量产,第二代产品较第一代功率密度提高50%,平均良率达到91%以上
2021年7月获得ISO9001:2015质量管理体系认证
2020年11月第一款1200V SiC MOS开始量产,并交付客户
2019年11月成立济南安海半导体有限公司
2019年获得上亿元战略投资
2017年9月广州安海半导体股份有限公司成立